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一种基于光谱浊度原位测量非均质纳米颗粒粒径及其包覆层厚度的方法[发明专利]

来源：爱go旅游网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种基于光谱浊度原位测量非均质纳米颗粒粒径及

其包覆层厚度的方法

专利类型：发明专利发明人：陈岚,葛广路,袁丽申请号：CN201710037953.9申请日：20170119公开号：CN106814013A公开日：20170609

摘要：本发明提供了一种原位测量非均质纳米颗粒粒径及其包覆层厚度的方法，所述方法包括以下步骤：(1)将尺寸已知的标准颗粒配制成所需质量浓度的标准溶液，在可见光波长范围内测定标准溶液的吸光度；(2)将测得的标准溶液的吸光度与瑞利散射计算强度值进行计算得到光斑参数S；(3)配制待测样品溶液，根据待测样品溶液的材料参数与得到光斑参数S通过瑞利散射模型计算得到待测样品溶液中纳米颗粒的粒径及其包覆层厚度。本发明所述方法是一种能在复杂溶液体系下原位测量纳米颗粒非水合粒径的技术，样品制备简单，测量方便且成本低。

申请人：国家纳米科学中心

地址：100190 北京市海淀区中关村北一条11号

国籍：CN

代理机构：北京品源专利代理有限公司

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