专利名称：TFT-LCD阵列基板及其制造方法专利类型：发明专利
发明人：刘翔,林承武,陈旭,谢振宇申请号：CN200810247594.0申请日：20081230公开号：CN101770124A公开日：20100707
摘要：本发明涉及一种TFT-LCD阵列基板及其制造方法，其中方法包括：步骤1、在基板上沉积栅金属层薄膜，形成包括栅电极和栅线的图形；步骤2、在完成步骤1的基板上沉积栅绝缘层薄膜、半导体层薄膜和阻挡层薄膜，形成包括栅绝缘层、半导体层和阻挡层的图形在内的图形，阻挡层用于阻止TFT沟道部分的半导体层被刻蚀；步骤3、在完成步骤2的基板上，沉积欧姆接触层薄膜、透明导电层薄膜、源漏金属层薄膜和钝化层薄膜，形成包括欧姆接触层、像素电极、数据线、源电极、漏电极和钝化层的图形在内的图形。本发明通过在半导体层和欧姆接触层之间夹设阻挡层，能够在不增加构图工艺的情况下减小半导体层的厚度，提高TFT的性能。
申请人：北京京东方光电科技有限公司
地址：100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
国籍：CN
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人：刘芳
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