专利名称：一种下部电极专利类型：实用新型专利
发明人：蒋晓纬,肖红玺,刘华锋,陈皓,朱孝会申请号：CN201320076974.9申请日：20130219公开号：CN203084388U公开日：20130724
摘要：本实用新型提供了一种下部电极，涉及干法刻蚀领域，解决了现有技术中下部电极的陶瓷点和陶瓷层经不同工序形成，陶瓷点与陶瓷层结合强度不高，陶瓷点容易从陶瓷层上脱落的问题。一种下部电极，包括：金属基板和绝缘层，其中，所述金属基板包括：基板本体以及多个设置在所述基板本体上表面的凸出部，所述绝缘层覆盖所述基板本体的上表面以及设置在所述基板本体上表面的凸出部，且在所述凸出部处形成凸出绝缘点。本实用新型适用于刻蚀装置零部件的设计及制造。
申请人：北京京东方光电科技有限公司
地址：100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容