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激光近场分布测量用4f光学系统

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(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)实用新型专利

(21)申请号 CN201120074856.5 (22)申请日 2011.03.21

(71)申请人 中国科学院西安光学精密机械研究所

地址 710119 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号

(10)申请公布号 CN201983855U

(43)申请公布日 2011.09.21

(72)发明人 李红光;董晓娜;达争尚

(74)专利代理机构 西安智邦专利商标代理有限公司

代理人 徐平

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

激光近场分布测量用4f光学系统

(57)摘要

本实用新型涉及一种在激光近场分布

测量用的4f光学系统,该激光近场分布测量用4f光学系统包括对入射光起会聚作用的会聚元件、对入射光起准直作用的准直元件以及探测器;会聚元件、准直元件以及探测器依次设置于同一光轴上。本实用新型提供了一种测量精度高、结构简单以及使用方便的激光近场分布测量用4f光学系统。 法律状态

法律状态公告日

2011-09-21

授权

法律状态信息

授权

法律状态

法律状态公告日

2017-05-10

法律状态信息

专利权的终止

法律状态

专利权的终止

权利要求说明书

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说明书

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