专利名称：一种金属氧化膜电阻的多源蒸发式制备方法专利类型：发明专利发明人：曹维常
申请号：CN201610775228.7申请日：20160831公开号：CN106298128A公开日：20170104
摘要：本发明公开了一种金属氧化膜电阻的多源蒸发式制备方法，其具备步骤为：（1）将锡、锑、镍分别放置在真空镀膜机的三个不同的蒸发源内同时蒸镀；（2）蒸镀完毕取出冷却后，置入紫外照射舱紫外照射处理，再置入加热炉中烘烤；（3）烘烤结束后自然冷却，再经过涂漆、压帽、焊引线、刻槽和涂外漆工序，得到金属氧化膜电阻；本发明的有益效果是：采用多源同时蒸镀工艺，保证膜内组分分布均匀，还采用了后期紫外照射和低温退火工序，加强了金属氧化膜成膜质量，提高了电阻的电学性能。
申请人：安徽斯迈尔电子科技有限公司
地址：233400 安徽省蚌埠市怀远经济开发区
国籍：CN
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