专利名称：抗蚀剂下层膜形成用组合物专利类型：发明专利
发明人：西田登喜雄,藤谷德昌,坂本力丸申请号：CN201580053983.8申请日：20151016公开号：CN107111234A公开日：20170829
摘要：本发明的课题是提供一种用于形成抗蚀剂下层膜的组合物，其能够形成表示抗蚀剂图案的线宽的不均匀度的LWR比以往小的抗蚀剂图案。本发明的解决方法是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物、具有被叔丁氧基羰基保护了的氨基和未被保护的羧基的化合物或该化合物的水合物、以及溶剂，所述化合物或该化合物的水合物相对于该聚合物100质量份为0.1质量份～30质量份。
申请人：日产化学工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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