一种等离子体增强化学气相沉积装置[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种等离子体增强化学气相沉积装置专利类型：发明专利

发明人：王谦,董杰,杨晓东,何小强申请号：CN201410117033.4申请日：20140326公开号：CN103911599A公开日：20140709

摘要：本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积装置，包括反应腔、位于反应腔上方且与反应腔固定连接的遮挡盖、位于遮挡盖之上且与遮挡盖构成密闭空间的维护盒，位于密闭空间内且与遮挡盖固定连接的连接部，以及位于维护盒上方且通过连接杆与维护盒固定连接的反应腔盖加强杆；其中，维护盒包括顶盖以及与顶盖固定连接的盒体；与反应腔盖加强杆固定的连接杆位于封闭空间之外且与维护盒的顶盖固定连接；维护盒的顶盖与连接部固定连接。由于在该等离子体增强化学气相沉积装置中，与反应腔盖加强杆固定的连接杆是在维护盒的封闭空间之外与维护盒的顶盖固定连接的，因此可以避免在维护盒的顶部发生射频泄露和击穿的问题，从而避免出现人员受伤害的危险。

申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司

地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

国籍：CN

代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司

代理人：黄志华

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