专利名称：一种分布式磁控溅射靶专利类型：实用新型专利
发明人：秦正春,李东滨,吴疆,冯斌,王德苗,金浩申请号：CN201721410725.3申请日：20171030公开号：CN207498459U公开日：20180615
摘要：本实用新型公开了一种分布式磁控溅射靶，包括自上而下设置的密封罩、真空安装环、绝缘环和阴极板，还包括靶材组件、固定组件和密封圈；在垂直于阴极板的方向上设有若干个安装靶材组件的磁芯孔，所述的磁芯孔的分布与所镀膜的三维产品相对应；所述的靶材组件包括电磁线圈、磁芯、和球形靶材；所述的球形靶材安装在阴极板上与密封腔相对的一侧，直接与阴极板接触；所述的磁芯贯穿磁芯孔，所述的磁芯一端为半球形并置于球形靶材内，另一端位于密封腔中，套有电磁线圈；所述的磁芯通过固定组件与阴极板相连。本实用新型可实现立体产品的各个方向的镀膜的均匀性。
申请人：苏州求是真空电子有限公司
地址：215300 江苏省苏州市昆山玉山镇元丰路232号1号楼
国籍：CN
代理机构：南京纵横知识产权代理有限公司
代理人：董建林
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