专利名称：检查衬底的方法、量测设备和光刻系统专利类型：发明专利
发明人：T·W·图克,A·辛格,G·范德祖申请号：CN202010697550.9申请日：20170928公开号：CN111736434A公开日：20201002
摘要：公开了检查衬底的方法、量测设备和光刻系统。在一种布置中，检查衬底。由辐射源发射的源辐射光束被分成测量光束和参考光束。用测量光束照射第一目标，第一目标在衬底上。用参考光束照射第二目标，第二目标与衬底分离。从第一目标收集第一散射辐射并将其递送到检测器。从第二目标收集第二散射辐射并将其递送到检测器。在检测器处第一散射辐射与第二散射辐射干涉。第一目标包括第一图案。第二目标包括第二图案或第二图案的光瞳平面图像。第一图案在几何上与第二图案相同，第一图案和第二图案是周期性的并且第一图案的节距与第二图案的节距相同，或两者兼而有之。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维德霍温
国籍：NL
代理机构：北京市金杜律师事务所
代理人：董典红
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