曝光装置以及物品的制造方法[发明专利]

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专利名称：曝光装置以及物品的制造方法专利类型：发明专利发明人：大野文靖

申请号：CN201710375971.8申请日：20170525公开号：CN107436539A公开日：20171205

摘要：本发明涉及一种曝光装置以及物品的制造方法。进行基板的扫描曝光的曝光装置具有：投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；以及控制部。投影光学系统包括：包含凹面镜和凸面镜在内的多个光学部件；多个调整部，为了调整凹面镜的面形状，对凹面镜的背面的多个部位施加力；以及测量部，测量所述光学部件的位置以及姿势中的至少某一个。控制部根据由测量部测量出的测量结果进行多个调整部的控制，以使得在扫描曝光的执行过程中调整凹面镜的面形状。

申请人：佳能株式会社

地址：日本东京

国籍：JP

代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：孙蕾

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