专利名称：脱模膜专利类型：发明专利
发明人：中野正志,明星芳树,西松英明,小田川友彦,安田晴纪申请号：CN201480040329.9申请日：20140715公开号：CN105358308A公开日：20160224
摘要：本发明提供耐热尺寸稳定性和耐卷曲性充分优异的聚苯乙烯系脱模膜。本发明涉及脱模膜，其为由含有间规聚苯乙烯系树脂的双轴取向聚苯乙烯系膜构成的脱模膜，其特征在于，至少单面进行了消光加工，该脱模膜的卷曲率为80%以下。
申请人：仓敷纺绩株式会社
地址：日本冈山县仓敷市本町7番1号
国籍：JP
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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