专利名称：一种可实现高灌注量精度的真空灌注室结构专利类型：实用新型专利发明人：徐宏伟,张为,张宝森,郭猛申请号：CN202020901618.6申请日：20200526公开号：CN212559397U公开日：20210219
摘要：本实用新型公开了一种可实现高灌注量精度的真空灌注室结构，包括真空灌注室本体，真空灌注室本体顶部安装灌注头，灌注头上设置气动针阀，真空灌注室本体内部安装电子天平，在真空灌注室本体内部两侧安装有可升降的内部传送带座，内部传送带座位于电子天平上方。本实用新型所提出的结构可以为实现高精度的灌注量，闭环控制提供必要的机械结构基础。
申请人：西安理工大学
地址：710048 陕西省西安市碑林区金花南路5号
国籍：CN
代理机构：西安弘理专利事务所
代理人：涂秀清
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