保护盖和系统[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：保护盖和系统专利类型：实用新型专利

发明人：周创业,张红勤,沈诗哲,M·迪文森特申请号：CN201120351744.X申请日：20110920公开号：CN202267809U公开日：20120606

摘要：本实用新型涉及保护盖和系统。本实用新型要解决的一个技术问题是避免用于具有朝后的照相机组件的电子设备的保护盖不利地影响所捕获图像的质量。提供了一种用于电子设备的保护盖，电子设备至少具有朝后的照相机组件，照相机组件具有透镜组件和靠近透镜组件的光源，保护盖包括：外壳，外壳具有符合电子设备、适于围住电子设备的后部的至少一部分的形状，外壳包括：关于照相机组件适当地确定大小和位置、允许来自光源的光照射对象然后反射回透镜组件用于图像捕获的开口；以及防止由光源发射并由除被照射对象之外的其它任何物体反射的光到达透镜组件的阻光机构。通过本实用新型改善了由朝后的照相机组件捕获的图像质量。

申请人：苹果公司

地址：美国加利福尼亚

国籍：US

代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：陈华成

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