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聚脲膜及其成膜方法

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(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN200880007921.3 (22)申请日 2008.04.01

(71)申请人 株式会社爱发科;小岛压力加工工业株式会社

地址 日本神奈川

(10)申请公布号 CN1016318A

(43)申请公布日 2010.01.20

(72)发明人 入仓钢;大森大辅;野口真淑

(74)专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人 贾成功

(51)Int.CI

C23C14/12; C08G18/08; C08G18/32;

权利要求说明书 说明书 幅图

()发明名称

聚脲膜及其成膜方法

(57)摘要

本发明的目的在于,通过真空蒸镀聚合法

在树脂成型品基材上形成透明性、耐光性和批量生产性优异的聚脲膜。该聚脲膜是由芳香族烷基、脂环状或脂肪族二异氰酸酯单体与芳香族烷基、脂环状或脂肪族二胺单体真空蒸镀聚合而得到的,其中,所述二异氰酸酯单体和所述二胺单

体选自从基材上脱离所需要的活化能的差为10kJ以下的关系的单体。

法律状态

法律状态公告日

2010-01-20 2010-06-09 2011-12-28

法律状态信息

公开

实质审查的生效 授权

法律状态

公开

实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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