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反射率测量系统与方法

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(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201910885782.4 (22)申请日 2019.09.19

(71)申请人 积体电路制造股份有限公司

地址 中国新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

(10)申请公布号 CN110931377A

(43)申请公布日 2020.03.27

(72)发明人 刘晏宏;杨明耀;陈哲夫

(74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司

代理人 徐金国

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

()发明名称

反射率测量系统与方法

(57)摘要

一种反射率量测系统与方法。反射率测量

系统包含工厂接口、蚀刻工具以及至少一测量装置。工厂接口用以乘载晶圆。蚀刻工具耦接于工厂接口,并用以处理从工厂接口传送的晶圆。测量装置设置于工厂接口、蚀刻工具或其组合之内。测量装置用以执行对晶圆的反射率的即时量测,其中晶圆由工厂接口或蚀刻工具乘载。

法律状态

法律状态公告日

2020-03-27 2020-03-27 2020-04-21

公开 公开

法律状态信息

公开 公开

法律状态

实质审查的生效 实质审查的生效

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说明书

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