专利名称：一种用于设计衍射光栅结构的方法和衍射光栅结构专利类型：发明专利
发明人：托马斯·瓦里尤斯,胡海·皮耶塔里宁,P·拉科南申请号：CN200780052654.7申请日：20070223公开号：CN101765793A公开日：20100630
摘要：根据本发明，提供了用于设计衍射光栅结构(1)的方法，该结构的光栅周期(d)包括至少两条光栅刻线，每条光栅刻线由一对相邻的柱(2)和刻槽(3)组成，该方法包括如下步骤：确定衍射级的期望衍射效率η，以及使柱(2)和刻槽(3)形成所需尺寸，以便当根据沿着该柱传播的基波模式的有效折射率η为每个柱计算通过光栅结构传播的光所经历的相移Φ时，相邻柱之间的所计算的相移中的差相应于期望衍射效率所需要的相位剖面Φ。
申请人：纳诺科普有限公司
地址：芬兰雷曼
国籍：FI
代理机构：北京安信方达知识产权代理有限公司
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