专利名称：主衍射光栅的制造装置及制造方法专利类型：发明专利发明人：大上裕纪
申请号：CN201880082154.6申请日：20180620公开号：CN111512191A公开日：20200807
摘要：主衍射光栅的制造装置包括光源部与反射构件11。光源部朝主基板101的基板表面照射光，由此形成第一干涉条纹。反射构件11使反射由主基板101的基板表面反射的来自光源部的光，而再次朝基板表面侧引导，由此形成第二干涉条纹。在主基板101的基板表面形成基于第一干涉条纹及第二干涉条纹的抗蚀剂图案。
申请人：株式会社岛津制作所
地址：日本京都府京都市中京区西之京桑原町1番地
国籍：JP
代理机构：北京派特恩知识产权代理有限公司
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