专利名称：一种变栅距凹面光栅及其制作工艺专利类型：发明专利
发明人：梁娟,焦鑫,杨莽,吴克墀申请号：CN201711287721.5申请日：20171207公开号：CN108152873A公开日：20180612
摘要：本发明公开了一种变栅距凹面光栅制作工艺，包括：调配复合树脂步骤：采用顺排碳纳米管、聚氨酯丙烯酸树脂、活性单体、引发剂混合，得到复合树脂；3D打印模型设计步骤：通过计算机设计具有空洞微结构的光栅模型；所述空洞微结构的尺寸为10‑20nm；所述光栅的特征线宽为0.4‑0.6μm；3D打印步骤：利用LED‑UV分辨率1080P的DLP‑3D打印机打印得变栅距凹面光栅。该制作工艺通过在3D数字建模过程中设计人造微结构及其采取随机分布排列方式，增加对不同方向入射电磁波的电磁响应，使得该变栅距功能的凹面光栅在较宽的频段内具有较高的折射率。
申请人：深圳力合防伪技术有限公司
地址：518000 广东省深圳市南山区高新南七道深圳清华大学研究院C320
国籍：CN
代理机构：广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙)
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