专利名称：衬底处理设备专利类型：发明专利发明人：张承逸,安吉秀申请号：CN201210371923.9申请日：20120928公开号：CN103515190A公开日：20140115
摘要：一种衬底处理设备，包含：处理室，在其侧壁中具有至少一狭缝，其中待处理的衬底放在所述处理室内；喷射单元，定位在所述处理室内以将处理介质喷到所述衬底上；驱动单元，定位在所述处理室外，通过所述狭缝而连接到所述喷射单元并且在所述衬底的表面方向上移动所述喷射单元；以及密封单元，介入在所述喷射单元与所述驱动单元之间并且密封所述驱动单元使其不受所述处理室的内部气氛影响。
申请人：株式会社MM科技
地址：韩国京畿道安山市檀园区木内洞504番地半月工团17区31号202栋
国籍：KR
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
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