衬底处理装置和处理方法[发明专利]

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专利名称：衬底处理装置和处理方法专利类型：发明专利

发明人：川野健二,伊藤信一,塩原英志,河村大辅,早崎圭申请号：CN01145768.6申请日：20011226公开号：CN1367407A公开日：20020904

摘要：具有光刻胶膜的被处理衬底的加热装置。该加热装置具有:具有内部空间的腔室、腔室内用于加热被处理衬底的加热板、及隔壁部件。加热板具有在腔室内支承被处理衬底的载置面。隔壁部件跟载置面对向地配置在腔室内。并且,隔壁部件将内部空间分隔成第1和第2空间,同时具有连通第1和第2空间的多个孔。加热板的载置面配置于第1空间内。第2空间配置有用于形成气体流的气体流形成机构,用该机构排出由光刻胶膜产生的蒸发物。

申请人：株式会社东芝

地址：日本东京都

国籍：JP

代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：王永刚

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