硅片清洗废水回用装置[发明专利]

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专利名称：硅片清洗废水回用装置专利类型：发明专利发明人：王秦伟,杨乐,何勤忠申请号：CN201010514375.1申请日：20101021公开号：CN101947523A公开日：20110119

摘要：本发明涉及一种硅片清洗废水回用装置，包括相连通的回用水蓄水池、增压水泵、压力水罐及脱胶机蓄水槽；回用水蓄水池内设置有第一液位传感器，压力水罐上设置有压力传感器，第一液位传感器及压力传感器与增压水泵的电控器电连接；脱胶机蓄水槽内设置有第二液位传感器，第二液位传感器与第一电磁阀及第二电磁阀电连接。本发明可充分利用清洗机排放的废水供脱胶机使用，提高了废水回用率，能够有效节约生产用水，减少废水排放；本发明还可以省去清洗机和脱胶机自带的废水回用装置，在节约生产成本的同时也可节约设备成本。

申请人：高佳太阳能股份有限公司

地址：214174 江苏省无锡市惠山区堰桥街道堰丰路168号

国籍：CN

代理机构：无锡市大为专利商标事务所

代理人：曹祖良

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