专利名称：磁性吸附组件改良结构专利类型：实用新型专利发明人：吴泓志,范姜正良申请号：CN200620049756.6申请日：20060109公开号：CN2866158Y公开日：20070207
摘要：本实用新型公开了一种磁性吸附组件改良结构，其至少具有二相对配置面，该二配置面分别定义为磁吸面及非磁吸面，使该磁吸面可吸附于另一具磁吸性材质表面形成定位，而于该非磁吸面两侧缘之间设有一容置凹槽，且该容置凹槽具有一宽度较窄的开口，可供挡止于一具预设图案或文字或标记的展示片二旁侧上方，使该展示片可稳固定位于该容置凹槽之中且其生产方式可降低生产成本，提高工作效率。
申请人：吴泓志,范姜正良
地址：省台北县新庄市新树路268巷31号
国籍：CN
代理机构：长沙正奇专利事务所有限责任公司
代理人：何为
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