靶材组件及其加工方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：靶材组件及其加工方法专利类型：发明专利

发明人：姚力军,潘杰,相原俊夫,王学泽,徐礼升申请号：CN201610440020.X申请日：20160617公开号：CN107513691A公开日：20171226

摘要：本发明提供一种靶材组件及其加工方法，所述靶材组件包括：背板，包括焊接区域以及环绕焊接区域的边缘区域；靶坯，焊接于焊接区域的背板上；环形吸附结构，位于边缘区域的背板内且环绕靶坯，环形吸附结构包括一个环形吸附槽；或者，环形吸附结构包括一个环形吸附槽组，环形吸附槽组包括至少两个环形吸附槽，且环形吸附槽呈相互间隔的同心排布。本发明提供一种靶材组件，包括位于边缘区域的背板内且环绕靶坯的环形吸附结构，环形吸附结构包括一个环形吸附槽或环形吸附槽组，环形吸附槽组包括至少两个环形吸附槽；因此在靶材溅射过程中，可以使反溅射材料堆积至环形吸附槽内，从而减少或避免反溅射材料发生剥落而掉落至硅片上的情况。

申请人：宁波江丰电子材料股份有限公司

地址：3100 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号

国籍：CN

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

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