形成界面偶极子层的系统和方法

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（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201680010808.5 （22）申请日 2016.01.29 （71）申请人高通股份有限公司

地址美国加利福尼亚州

（10）申请公布号 CN107251146A

（43）申请公布日 2017.10.13

（72）发明人 J·J·徐;X·李

（74）专利代理机构上海专利商标事务所有限公司

代理人李小芳

（51）Int.CI

权利要求说明书说明书幅图

（）发明名称

形成界面偶极子层的系统和方法

（57）摘要

一种形成电子设备的方法，该方法包括邻

近场效应晶体管(FET)的栅极区中的介电层(204)形成除氧层(230)。在该介电层与该FET的基板之间有界面层(214)。该方法进一步包括通过对该除氧层、该介电层和该界面层进行退火来形成偶极子层。

法律状态

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态

法律状态公告日

2017-10-13 2017-10-13 2017-11-10

公开公开

法律状态信息

公开公开

法律状态

实质审查的生效实质审查的生效

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说明书

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