1. 研磨: 0.5g 材料研钵液氮研磨后加入到1mlNEB buffer(1mM PMSF, 1mM PI, 1mM EDTA, 1XNa2PO4)，混匀。
2. 过滤：用滤布过滤掉残渣，过滤后的匀浆低速离心1000g 10min
3. 加入1% triton顶速离心（14000g）for 10min.
4. 去除沉淀，取上清作为input. 留出50ul （根据需要去一定的量跑电泳，并不是将50ul全用于电泳）用于SDS-PAGE,剩余的与beads 结合30min
5. 500g离心5min,使beads和flow through 分离，取50ul flow through 用于SDS-PAGE
6. NEB buffer洗beads 5 次， 500g 1min/次。最后一次洗换新的EP管并均分成2管，分别用于—/+CIP处理
7. 向两管beads分别加入CIP buffer/ CIP 1ul, 37度 1hour
8. 加入2XSDS buffer煮beads, 以及适量input Flow through，将含有beads的样品低速离心分离beads后取上清用于 SDS-PAGE
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