两种光敏感可逆溶解成相聚合物、其制备方法及形成的光敏性再生型

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专利名称：两种光敏感可逆溶解成相聚合物、其制备方法及形

成的光敏性再生型两水相体系

专利类型：发明专利发明人：曹学君,陈金朋,苗述申请号：CN200910044916.6申请日：20090106公开号：CN101497676A公开日：20090805

摘要：本发明涉及光敏感可逆溶解成相聚合物I和II，聚合物I的粘均分子量为10～10，由式(1)、式(2)、式(3)和式(4)的化合物经无规共聚而成，摩尔比100～80∶4～2∶1∶6～10，聚合物II的粘均分子量为10～10，由式(5)、式(6)、式(7)和式(8)的化合物经无规共聚而成，摩尔比15～20∶4～2∶1∶4～2，R、R、R、R分别选自H或C～C的烷基；R、R为H或C～C的烷基；R为CH或CHO；R为COOH、COONa或COOK；及各自的制备方法以及两者形成的再生型两水相体系，本发明的聚合物I和II光敏感可逆溶解，由此形成的再生型两水相体系为光敏性，聚合物I和II可高效回收，大大降低使用成本，且回收简便，并可保持生物质活性与稳定性。

申请人：华东理工大学

地址：200237 上海市梅陇路130号

国籍：CN

代理机构：上海智信专利代理有限公司

代理人：王洁

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