专利名称：狭缝式模具涂布装置专利类型：发明专利
发明人：朴元灿,呂政炫,林艺勋申请号：CN201480003040.X申请日：20140228公开号：CN104781016A公开日：20150715
摘要：本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效抑制真空室内的压力振荡，因而能够确保基膜上的涂布稳定性，从而降低缺陷产品的比例。
申请人：LG化学株式会社
地址：韩国首尔
国籍：KR
代理机构：北京鸿元知识产权代理有限公司
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