专利名称：介电薄膜形成用组合物、介电薄膜的形成方法及介
电薄膜
专利类型：发明专利
发明人：藤井顺,樱井英章,曽山信幸申请号：CN201210003035.1申请日：20120106公开号：CN103193477A公开日：20130710
摘要：本发明提供一种未包含对环境的负载较大的物质且能够用简单的方法制作适合用于薄膜电容器的介电薄膜且保存稳定性优异、涂膜性良好的介电薄膜形成用组合物、介电薄膜的形成方法及通过该方法形成的介电薄膜。一种液状介电薄膜形成用组合物，用于形成呈通式：CaCuTiO(式中0.5≤x≤1.1)所示的复合金属氧化物形态的薄膜，其特征在于，由用于构成该复合金属氧化物的原料以提供上述通式所示的金属原子比的比例溶解于有机溶剂中的有机金属化合物溶液构成，所述有机溶剂以具有通式：CHCOOH(其中n为2～6的整数)所示的直链或者1条或2条以上侧链的羧酸为主成分。
申请人：三菱综合材料株式会社
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：北京德琦知识产权代理有限公司
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