专利名称：一种废气处理系统专利类型：实用新型专利发明人：田志伟
申请号：CN201620816471.4申请日：20160729公开号：CN205925400U公开日：20170208
摘要：一种废气处理系统，用以处理半导体工艺中所产生的废气，其包含有依序设置且相互连通的一前处理装置、一氧化装置、一淬火装置以及一后处理装置，该前处理装置包含有一朝该废气喷洒一第一洗涤液的第一洗涤器，该氧化装置包含有一对该废气加热的加热器，该淬火装置包含有一朝该废气喷洒一降温流体的降温器，该后处理装置包含有一朝该废气喷洒一第二洗涤液的第二洗涤器。该第一洗涤液与该第二洗涤液可以对废气进行中和，并冲洗掉废气中的颗粒物质，而该加热器可以对该废气的有害物质进行氧化，如此一来，可以有效的去除废气中的有害物质。
申请人：宝虹(新加坡)私人有限公司
地址：新加坡加冷工业园区加冷坊30号#01-23/24
国籍：SG
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人：王玉双
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